این سایت در حال حاضر پشتیبانی نمی شود و امکان دارد داده های نشریات بروز نباشند
International Journal of Nanoscience and Nanotechnology (IJNN)، جلد ۷، شماره ۴، صفحات ۱۸۳-۱۸۹
عنوان فارسی
چکیده فارسی مقاله
کلیدواژه‌های فارسی مقاله
عنوان انگلیسی Fabrication of Copper and Iron Nano/Micro Structures on Semiconducting Substrate and Their Electrical Characterization
چکیده انگلیسی مقاله In this paper, we have studied the electrical properties of the randomly distributed metallic (Co and Fe) nano/ micro wires on Silicon substrate. Deposition was carried out potentiostatically into the pores of the track-etch polycarbonate membrane spin coated onto the Si substrate. Spin coated films were irradiated with 150MeV Ni (+11) ions at a fluence of 8E7 ions/cm2, followed by UV irradiation and chemically etching in aqueous NaOH (6N, at room temperature). The size, shape and morphology of the synthesized nano/micro structures is strongly dependent on the preparation conditions such as deposition potential, current density, electrolyte and etching conditions. Later, morphological and electrical properties of the so deposited nano-/micro structureswere studied.
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله Irradiation,Ion track,etching
نویسندگان مقاله j kaur |
department of physics, guru nanak dev university, amritsar, india

s سینگ |
department of physics, guru nanak dev university, amritsar, india

r کومار |
department of physics, haryana college of technology and management, kaithal, india

d kanjilal |
iuac new delhi, india

sh chakarvarti |
manav rachna international university mriu ,faridabad, india

نشانی اینترنتی http://www.ijnnonline.net/article_3930_d7c6e6cbc36d6c767b6604b5fd78430d.pdf
فایل مقاله فایلی برای مقاله ذخیره نشده است
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده en
موضوعات مقاله منتشر شده
نوع مقاله منتشر شده
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات