این سایت در حال حاضر پشتیبانی نمی شود و امکان دارد داده های نشریات بروز نباشند
Iranian Journal of Chemistry and Chemical Engineering، جلد ۲۷، شماره ۴، صفحات ۲۹-۳۴
عنوان فارسی
چکیده فارسی مقاله
کلیدواژه‌های فارسی مقاله
عنوان انگلیسی Nanometer-Scale Patterning on PMMA Resist by Force Microscopy Lithography
چکیده انگلیسی مقاله Nanoscale science and technology has today mainly focused on the fabrication of nano devices. In this paper, we study the use of lithography process to build the desired nanostructures directly. Nanolithography on polymethylmethacrylate (PMMA) surface is carried out by using Atomic Force Microscope (AFM) equipped with silicon tip, in contact mode. The analysis of the results shows that the depth of scratches increases with the increase of applied normal force. The scanning velocity is also shown to influence the AFM patterning process. As the scanning velocity increases, the scratch depth decreases. The influence of time and number of scratching cycles is also investigated.
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله
نویسندگان مقاله صدیقه صادق حسنی | sadegh hassani
catalysis research center, research institute of petroleum industry ripi , p.o. box 18754-4163 tehran, i.r. iran
سازمان اصلی تایید شده: پژوهشگاه صنعت نفت (Research institute of petroleum industry)

زهرا ثبات |
catalysis research center, research institute of petroleum industry ripi , p.o. box 18754-4163 tehran, i.r. iran
سازمان اصلی تایید شده: پژوهشگاه صنعت نفت (Research institute of petroleum industry)

حمیدرضا آقابزرگ | hamid reza
catalysis research center, research institute of petroleum industry ripi , p.o. box 18754-4163 tehran, i.r. iran
سازمان اصلی تایید شده: پژوهشگاه صنعت نفت (Research institute of petroleum industry)

نشانی اینترنتی http://www.ijcce.ac.ir/article_6935_eadb243fa49f4b76d3673d823edb4585.pdf
فایل مقاله فایلی برای مقاله ذخیره نشده است
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده en
موضوعات مقاله منتشر شده
نوع مقاله منتشر شده
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات