این سایت در حال حاضر پشتیبانی نمی شود و امکان دارد داده های نشریات بروز نباشند
فرآیند و کارکرد گیاهی، جلد ۹، شماره ۳۸، صفحات ۶۱-۷۶
عنوان فارسی مقاومت بالای گیاه دارویی فلومیس توبروزا به تنش مس با واسطه انباشت نیتریک اکساید
چکیده فارسی مقاله در این پژوهش، تأثیر غلظت‌های مختلف مس بر فعالیت دستگاه فتوسنتزی و ظرفیت آنتی اکسیدانت گیاه فلومیس توبروزا (Phlomis tuberosa) مورد بررسی قرار گرفت. گیاهان در محیط پرلیت به مدت 5 هفته رشد کردند و سپس با غلظت‌های 0، 100، 200، 300 و 400 میکرومولار مس به مدت 21 روز تیمار شدند. نتایج نشان داد که گیاه فلومیس توبروزا نسبت به 100 و 200 میکرومولار مس مقاوم است. این مقاومت به واسطه افزایش ظرفیت سیستم آنتی اکسیدانت گیاه حاصل شد. با این حال غلظت‌های زیاد مس (300 و400 میکرومولار) تنش زا بودند و باعث افزایش انباشت پراکسید هیدروژن (H2O2) و مالون دی‌آلدئید (MDA) و کاهش معنی‌دار فعالیت کمپلکس آزاد کننده اکسیژن (Fv/Fo) و شاخص کارآیی فتوسیستم II (PIabs) گردیدند. براساس شاخص غلظت موثر (EC50 یعنی غلظتی از فلز که منجر به کاهش 50 درصدی تولید ماده خشک می‌شود)، آستانه سمیت مس برای گیاه فلومیس توبروزا، غلظت 300 میکرومولار تعیین گردید. جالب آنکه گیاهانی که در معرض سطوح متوسط مس به مدت 21 روز قرار گرفته بودند، بالاترین مقادیر انباشت نیتریک اکساید (NO) را نشان دادند و این انباشت با بالاترین فعالیت آنزیم‌های آنتی اکسیداتیو و همچنین تداوم فتوسنتز همراه بود.  
کلیدواژه‌های فارسی مقاله آستانه سمیت، غلظت موثر، فتوسیستمII ، فلورسانس کلروفیل a، فلومیس توبروزا، مس، نیتریک اکساید
عنوان انگلیسی Copper-stress tolerance induced in Phlomis tuberosa depends on nitric oxide accumulation
چکیده انگلیسی مقاله In this study, we compared the impact of high Cu concentrations on the photosynthetic apparatus and antioxidant capacity of the Phlomis tuberosa. Plants were grown in perlite culture for 5 weeks, and then treated with 0, 100, 200, 300 and 400 µM Cu for 21 days. Results indicated that Phlomis tuberosa plants showed tolerance to 100 and 200 µM Cu. This increased tolerance was achieved through enhancement in antioxidant system activity. However, exposure to high Cu (300 and 400 µM) showed the highest level of stress leading to higher hydrogen peroxide (H2O2) and malondialdehyde (MDA) levels and lower inferred oxygen evolving complex activity (Fv/Fo) and calculated Performance Index (PIabs) values. Based on effective concentration (EC50 – substrate Cu concentration resulting in 50% biomass reduction) parameter, Cu toxicity thresholds for Phlomis tuberosa plants were determined at substrate Cu levels up to 300 µM. Interestingly, plants exposed to medium Cu levels for 21 days exhibited higher nitric oxide (NO) accumulation in the leaves, which was associated with enhanced levels of antioxidative enzyme activities, whilst maintaining photosynthesis.  
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله toxicity thresholds, effective concentration, photosystem II, chlorophyll a fluorescence, Phlomis tuberosa, copper, nitric oxide
نویسندگان مقاله قادر حبیبی | Ghader Habibi
Department of Biology, Payame Noor University (PNU), Iran
گروه زیست شناسی، دانشگاه پیام نور، ایران

فرزانه رستم پور | Farzane Rostampoor
Department of Biology, Payame Noor University (PNU), Iran
گروه زیست شناسی، دانشگاه پیام نور، ایران

نشانی اینترنتی http://jispp.iut.ac.ir/browse.php?a_code=A-10-737-5&slc_lang=fa&sid=1
فایل مقاله فایلی برای مقاله ذخیره نشده است
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده fa
موضوعات مقاله منتشر شده تنش فلزات سنگین
نوع مقاله منتشر شده پژوهشی
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات