این سایت در حال حاضر پشتیبانی نمی شود و امکان دارد داده های نشریات بروز نباشند
Journal of Sciences Islamic Republic of Iran، جلد ۱۶، شماره ۲، صفحات ۰-۰
عنوان فارسی
چکیده فارسی مقاله
کلیدواژه‌های فارسی مقاله
عنوان انگلیسی Study of Iridium (Ir) Thin Films Deposited on to SiO2 Substrates
چکیده انگلیسی مقاله Very smooth thin films of iridium have been deposited on super polished fused silica (SiO2) substrates using dc magnetron sputtering in argon plasma. The influence of deposition process parameters on film micro roughness has been investigated. In addition, film optical constants have been determined using variable angle spectroscopic ellipsometery, over the spectra range from vacuum ultraviolet to middle infrared (140 nm-35 ?m). Also the surface roughnesses were measured by atomic force microscopy (AFM).
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله
نویسندگان مقاله
نشانی اینترنتی http://jsciences.ut.ac.ir/article_31648_f59d8b255c25f83e4076465fea8aec42.pdf
فایل مقاله اشکال در دسترسی به فایل - ./files/site1/rds_journals/513/article-513-275548.pdf
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده en
موضوعات مقاله منتشر شده
نوع مقاله منتشر شده
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات