این سایت در حال حاضر پشتیبانی نمی شود و امکان دارد داده های نشریات بروز نباشند
International Journal of Engineering، جلد ۳۳، شماره ۸، صفحات ۱۴۴۰-۱۴۴۹
عنوان فارسی
چکیده فارسی مقاله
کلیدواژه‌های فارسی مقاله
عنوان انگلیسی Numerical Modeling of Non-equilibrium Plasma Discharge of Hydrogenated Silicon Nitride (SiH4/NH3/H2)
چکیده انگلیسی مقاله In this work, we model a radiofrequency discharge of hydrogenated silicon nitride in a capacitive coupled plasma reactor using Maxwellian and non-Maxwellian electron energy distribution function. The purpose is to investigate whether there is a real advantage and a significant contribution using non-Maxwellian electron energy distribution function rather than Maxwellian one for determining the fundamental characteristics of a radiofrequency plasma discharge. The results show the evolution of the non-Maxwellian electron energy distribution function, the mobility and the diffusion coefficient required to determine the fundamental characteristics of the radiofrequency plasma discharge of a hydrogenated silicon nitride deposit at low pressure and low temperature, between the two electrodes of the capacitive coupled plasma reactor.  By comparing these results using non-Maxwellian electron energy distribution function with those calculated using the Maxwellian one, we conclude that the use of non-Maxwellian electronic energy distribution function is more efficient for describing the evolution of a radiofrequency plasma discharge in a capacitive reactor, which will improve the quality of the deposition of thin films.
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله Numerical modeling,Non-equilibrium Electron Energy,distribution function,Radio Frequency Plasma Discharge Silicon,Nitride Capacitive,Coupled Plasma Reactor
نویسندگان مقاله M. Grari |
Mohamed first University, Department of Physics, LETSER Laboratory, Oujda, Morocco

C. Zoheir |
Mohamed first University, Department of Physics, LETSER Laboratory, Oujda, Morocco

نشانی اینترنتی https://www.ije.ir/article_108499_8ae1858324d2d265a7ee21c4be6b6079.pdf
فایل مقاله فایلی برای مقاله ذخیره نشده است
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده en
موضوعات مقاله منتشر شده
نوع مقاله منتشر شده
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات