|
بررسی تاثیر تابش لیزر کم توان هلیوم – نئون (8/632 نانومتر) بر میزان رد پیوند پوستی
|
| افشارپاد میترا *، قبادی احسان، توتونچی سروناز، عسگری مسعود، افشارپاد ماندانا ، علی نقی زاده محمدرضا |
|
|
|
چکيده: (7946 مشاهده) |
| هدف: رد مزمن پیوند یک روند ایمونولوژیک است که در دسته واکنشهای حساسیت تاخیری نوع IV دسته بندی میشود و اصلیترین فاکتور شناخته شده در این روند سلولهای لنفوسیتی TCD 8+ و لنفوکاینهای مترشحه از لنفوسیتها میباشند. با توجه به اثرات مدولاتوری سیستم ایمنی، لیزرهای کم توان شاید بتوان از این اثر در کاهش سطح این لنفوکاینها و ممانعت از رد استفاده کرد.روش بررسی: در شرایط استریل پوست از پشت موش MNL به پشت موش BALB/c پیوند شد و به دو گروه مورد و شاهد تقسیم شدند. موشهای گروه مورد روزانه تحت تابش لیزر کم توان هلیم - نئون (8/632 نانومتر و J/cm2 4) به مدت 14 روز قرار گرفتند. بررسی ماکروسکوپی و میکروسکوپی در روزهای 3 ،5 ،10 و 15 انجام شد.یافتهها: نتایج در جداول 1 تا 9 آورده شده اند که از این بین تنها ضخیم شدگی اپیذرم در گروه case به گونه significant از گروه کنترل بیشتر بود.نتیجهگیری: شاید علت افزایش قابل توجه اپیدرم در گروه مورد را بتوان به اثرات محرک تقسیم سلولی نسبت داد. دوز نامناسب تابش و حتی نا توانایی لیزر کم توان برای مهار سیستم ایمنی به تنهایی میتوانند از علل عدم موفقیت مطالعه فوق باشد. |
|
| واژههای کلیدی: لیزر کم توان هلیوم، نئون، پیوند پوستی، مهار سیستم ایمنی |
|
|
|
نوع مطالعه: پژوهشي |
موضوع مقاله:
عمومى
دریافت: ۱۳۸۵/۶/۱۵
|
| * نشانی نویسنده مسئول: مرکز پژوهشهای علمی دانشجویان دانشگاه علوم پزشکی تهران، خیابان پورسینا، دانشکده پزشکی |
|
|
|
|
|
|
| ارسال نظر درباره این مقاله |
|
|
|
